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NexION 300 ICP-MS参数
来源:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司PerkinElmer 资料
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NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质
将干扰去除,而这两个功能都是NexION 300 ICP-MS所兼具的。本应用报告证明了NexION 300SICP-MS使用低流量雾化器对小体积体硅样品中的杂质元素进行测定的能力。
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NexION 2000 ICP-MS
NexION 2000 ICP-MS融合多项独特的创新技术,专为适应所有基体、克服一切干扰、挑战任何纳米颗粒检测而打造。ICP-MS NexION
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NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质
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NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质
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NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质
NexION® 300S ICP-MS去除干扰,从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对TMAH中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。
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使用NexION 300 ICP-MS 对人体尿液中微量金属元素进行检测
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Nexion 350 ICP-MS英文样本
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NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质
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NexION 2000 ICP-MS全新等离子发生器产品优势
来源:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司 相关产品:PerkinElmer NexION 2000 ICP-MS 电感耦合等离子体质谱仪 应用
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